【案例简介】

合肥致真精密设备有限公司（以下简称致真设备公司）于2026年向安徽省知识产权保护中心（以下简称安徽保护中心）提交了发明专利预审案件“一种用于镀膜的磁控溅射装置及其使用方法”。预审员毕挺受理后，对申请所涉磁控溅射镀膜装置展开检索分析，识别出该磁控溅射装置及其使用方法是区别于现有技术的重要技术创新。此外，预审员还指出说明书中技术用语表述和标记不一致等问题，提出了具体优化建议，在完善申请文本后，发出了预审合格通知书。致真设备公司向国家知识产权局提交正式申请进入快速审查通道后，成功获得授权（ZL 2026 1 0129942.2），授权周期仅为88天。

该专利涉及镀膜技术领域，具体为一种用于镀膜的磁控溅射装置及其使用方法。基底温度是影响镀膜质量的关键因素，在镀膜时，需要对基底在高温和低温之间进行调控，磁控溅射装置通常设置有加热和冷却组件以及输送机构，但现有技术中该结构容易产生热干扰，影响镀膜效率，且占用空间大，操作繁琐对精度要求高。该专利在镀膜溅射腔室内设计有承载模块，用于载置待镀膜的基片，在溅射腔室外独立设置加热组件和冷却组件，输送模块可以选择性带动加热组件或者冷却组件远离或靠近承载模块，以加热或冷却基片，在有限的空间内实现对基片的温度调控，有效降低加热组件和冷却组件之间的影响，保证加热和冷却的效率。

图为基于本专利技术的磁控溅射设备

图为磁控溅射设备结构原理图

【典型意义】

合肥致真精密设备有限公司依托安徽省知识产权保护中心专利预审通道获得“一种用于镀膜的磁控溅射装置及其使用方法”发明专利快速授权。基于该专利技术，致真设备公司完成了完全自主知识产权的MSI-100型磁控溅射设备的研发和生产，该型设备能够适配集成电路金属布线、MoSi₂高温合金膜、柔性导电膜、光学多层膜等产品的研发和生产，解决了国内传统磁控溅射设备中普遍存在的分体结构、手动操作、离线检测、多靶交叉污染、冷热分腔等行业痛点，打破日本、美国对中小型精密薄膜设备的垄断，实现国产12英寸及以下晶圆薄膜制备设备的自主可控，且在同等膜均匀性、自动化性能下，采购成本较同规格进口设备低30%，为国产靶材、半导体基底等产业的发展提供了关键装备支撑。

【企业简介】

合肥致真精密设备有限公司成立于2021年，是一家专注于高精度物理气相沉积（PVD，Physical Vapor Deposition）设备及其关键组件研发与制造的国家高新技术企业，提供4-12英寸的薄膜沉积设备及工艺一站式解决方案。公司形成面向8-12英寸产线的产业级薄膜制备设备、面向4-6英寸科研及小试场景的科研级薄膜制备设备、以及真空传输平台和超高真空零配件的四大产品矩阵，灵活满足企业量产、高校研发、院所试验等多元应用需求。公司2023年获中国仪器仪表学会技术发明一等奖，2024年自主研发的8英寸薄膜设备入选合肥市首台套重大技术装备，获评国家高新技术企业、安徽省“专精特新”中小企业，并通过ISO 9001、ISO 14001、ISO 45001三体系认证，取得SEMI S2设备安全及S8环境健康安全双认证。

截至目前，合肥致真精密设备有限公司通过安徽保护中心专利预审快速审查通道累计提交了8件发明专利申请，已授权7件。